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Moorfield Nanotechnology是英國材料科學(xué)域高性能儀器研發(fā)公司，成立二十多年來注于高質(zhì)量的薄膜生長與加工技術(shù)，擁有雄厚的技術(shù)實力，推出的多種高性能設(shè)備受到科研與工業(yè)域的廣泛好評。高精度薄膜制備與加工系統(tǒng) - MiniLab是英國Moorfield Nanotechnology公司經(jīng)過多年技術(shù)積累與改進的旗艦型系列產(chǎn)品。

瑞士Cytosurge是將原子力系統(tǒng)、微流控系統(tǒng)、細胞培養(yǎng)系統(tǒng)為體的單細胞操作系統(tǒng)。主要功能包括單細胞注射、單細胞提取以及單細胞分離。FluidFM OMNIUM方便了單細胞水平的研究，尤其適合應(yīng)用于醫(yī)療、單細胞生物學(xué)、單細胞質(zhì)譜、單細胞基因編輯、藥物研發(fā)等域。

原子層沉積（Atomic layer deposition）是將氣相前驅(qū)體脈沖交替通入反應(yīng)器，化學(xué)吸附在沉積襯底上并反應(yīng)形成沉積膜的種方法，是種可以將物質(zhì)以單原子膜形式層層鍍在襯底表面的方法，因此，它是種真正的“納米”技術(shù)，以精確控制方式實現(xiàn)納米的超薄薄膜沉積。三維原子層沉積系統(tǒng)ALD用飽和化學(xué)吸附的性，可以確保對大面積、多空、管狀、粉末或其他復(fù)雜形狀基體的高保形的均勻沉積。

Moorfield公司近十年來與曼徹斯大學(xué)諾獎技術(shù)團隊緊密合作，推出的PVD薄膜制備系列產(chǎn)品由于其體積小巧、性能越、易于操作更是受到很多科研單位的贊譽。

Moorfield公司近十年來與曼徹斯大學(xué)諾獎技術(shù)團隊緊密合作，推出的薄膜磁控濺射系統(tǒng)系列產(chǎn)品由于其體積小巧、性能越、易于操作更是受到很多科研單位的贊譽。

zeroK Nanotech推出的基于低溫銫離子源（Cs+ LoTIS）的新代高精度低溫銫離子源FIB系統(tǒng)——FIB: ZERO（Cs+ LoTIS）和相應(yīng)的離子源升配件——FIB：RETRO，采用的低溫技術(shù)可以減少離子束中的隨機運動，從而使FIB：ZERO中的離子束斑與傳統(tǒng)離子源產(chǎn)生的束斑相比具有更高的亮度，更小的尺寸和更低的能量散失。同時，還可以產(chǎn)生更多的二次離子，獲得更清晰的成像。